ZetaPlus Zeta电(Dian)位(Wei)分(Fen)析(Xi)仪(Yi)

工(Gong)作(Zuo)原(Yuan)理(Li)：(?)

ZetaPlus电(Dian)位(Wei)测(Ce)量(Liang)采(Cai)用(Yong)电(Dian)泳(Yong)光(Guang)散(San)射(She)原(Yuan)理(Li)：(?)带(Dai)电(Dian)颗(Ke)粒(Li)在(Zai)外(Wai)加(Jia)电(Dian)场(Chang)作(Zuo)用(Yong)下(Xia)进(Jin)行(Xing)运(Yun)动(Dong)，(?)电(Dian)荷(He)运(Yun)动(Dong)使(Shi)散(San)射(She)光(Guang)产(Chan)生(Sheng)频(Pin)率(Lu)漂(Piao)移(Yi)（(?)多(Duo)普(Pu)勒(Le)频(Pin)移(Yi)）(?)，(?)采(Cai)用(Yong)频(Pin)谱(Pu)漂(Piao)移(Yi)分(Fen)析(Xi)技(Ji)术(Shu)，(?)从(Cong)而(?)可(Ke)计(Ji)算(Suan)出(Chu)颗(Ke)粒(Li)的(De)电(Dian)泳(Yong)迁(Qian)移(Yi)率(Lu)和(He)Zeta电(Dian)位(Wei)。(?)

主(Zhu)要(Yao)特(Te)点(Dian)：(?)

1、(?)低(Di)电(Dian)压(Ya)测(Ce)量(Liang)技(Ji)术(Shu)，(?)不(Bu)污(Wu)染(Ran)样(Yang)品(Pin)；(?)

2、(?)先(Xian)进(Jin)的(De)插(Cha)入(Ru)式(Shi)电(Dian)极(Ji)，(?)耐(Nai)腐(Fu)蚀(Shi)，(?)耐(Nai)有(You)机(Ji)溶(Rong)剂(Ji)，(?)避(Bi)免(Mian)电(Dian)渗(Shen)运(Yun)动(Dong)影(Ying)响(Xiang)，(?)无(Wu)交(Jiao)叉(Cha)污(Wu)染(Ran);

3、(?)宽(Kuan)温(Wen)控(Kong)配(Pei)置(Zhi)，(?)适(Shi)用(Yong)更(Geng)多(Duo)样(Yang)品(Pin)测(Ce)量(Liang)；(?)

4、(?)综(Zong)合(He)多(Duo)种(Zhong)分(Fen)析(Xi)方(Fang)法(Fa)和(He)模(Mo)型(Xing)Particle Solution 测(Ce)量(Liang)软(Ruan)件(Jian);

5、(?)强(Qiang)大(Da)的(De)数(Shu)据(Ju)分(Fen)析(Xi)功(Gong)能(Neng)，(?)可(Ke)自(Zi)动(Dong)研(Yan)究(Jiu)随(Sui)时(Shi)间(Jian)、(?)温(Wen)度(Du)(蛋(Dan)白(Bai)熔(Rong)点(Dian))以(Yi)及(Ji)其(Qi)他(Ta)参(Can)数(Shu)变(Bian)化(Hua)的(De)趋(Qu)势(Shi)分(Fen)析(Xi).

典(Dian)型(Xing)应(Ying)用(Yong)：(?)

1、(?)脂(Zhi)质(Zhi)体(Ti)、(?)生(Sheng)物(Wu)胶(Jiao)体(Ti)、(?)医(Yi)药(Yao)

2、(?)陶(Tao)瓷(Ci)、(?)胶(Jiao)乳(Ru)、(?)乳(Ru)剂(Ji)（(?)食(Shi)品(Pin)、(?)化(Hua)妆(Zhuang)品(Pin)）(?)

3、(?)颜(Yan)料(Liao)、(?)油(You)墨(Mo)、(?)炭(Tan)黑(Hei)

前(Qian)一(Yi)个(Ge)：(?)没(Mei)有(You)了(Liao)
后(Hou)一(Yi)个(Ge)：(?)ZetaPALS 高(Gao)灵(Ling)敏(Min)度(Du) Zeta电(Dian)位(Wei)分(Fen)析(Xi)仪(Yi)